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集成電路布圖設計權概述

(一)概念

集成電路布圖設計權(以下簡稱布圖設計權)是指布圖設計的創作人或其他權利人對布圖設計所享有的權利。布圖設計權屬于一類新型的知識產權，既非著作權，也非專利權，有著不同于二者的特征，但又與著作權和專利權有著密切的聯系。

(二)布圖設計權與著作權

二者的聯系表現在:(1)二者都是知識產權，保護的客體都具有無形性，必須通過一定的載體才能體現出來。且布圖設計的表現方式與作品的某些表現方式相同。(2)二者都以復制權作為主要權利內容。(3)二者都要受一定的權利限制。著作權有合理使用、法定許可、強制許可等規定，對于布圖設計權也有類似的權利限制規定。

二者的區別表現在:(1)著作權包括人身權和財產權，而布圖設計權的人身性極弱，僅表現為署名權而已。(2)就財產權內容而言，二者也存在區別。著作權中的財產權以復制權為主要內容，著作權法主要保護作品不被他人非法復制，并不禁止他人實施作品內容的行為。而布圖設計權除了包括復制權外，還包括商業利用權。具體而言，不僅禁止他人非法復制布圖設計，而且禁止他人以營利為目的非法實施布圖設計。(3)二者的客體不同。布圖設計權的客體是集成電路產品中的布圖設計，屬于技術領域中具有實用性的設計。而著作權的客體一般不具有實用性。(4)二者授予權利的條件不同。對于作品而言，只要其具備獨創性條件，即可獲得著作權，而不要求該項作品有任何較先前作品進步的“創造性”。而布圖設計若要獲得保護則必須具備一定的創造性。(5)二者在權利取得和保護方式上不同。對布圖設計的保護，大多數國家實行登記保護制度。而對于著作權一般采用自動保護主義，其取得無需經登記程序。

(三)布圖設計權與專利權

二者的聯系表現在:(1)二者的客體都是技術領域內的成果，具有實用性，能夠在工業中被利用，并都能產生積極的效果。(2)布圖設計權除了可以獲得專門法方式的保護外，只要其符合專利要求，還可以同時獲得專利法的保護。

二者的區別表現在:(1)權利獲得的條件不同。一項發明創造要取得專利權，必須具備新穎性、創造性和實用性。而布圖設計無需達到如此高的要求，其只要具備獨創性和非顯而易見性即可。顯然二者在創造性的要求上有高低之別。(2)權利性質不同。專利權是一種具有獨占和排他效力的專有權利，一項發明創造只能授予一個專利權，這是法律對專利所提供的一種較強的保護。布圖設計權則不然，法律雖然也基于布圖設計的一定創造性而給予較之于著作權法更強的保護，但其保護水平較之專利仍要低一個層次，布圖設計權人一般不能排除他人使用通過獨立創作而得到的相同的布圖設計。對自己獨立創作的與他人相同的布圖設計進行復制或者將其投入商業利用的，可以不經布圖設計權利人許可，亦無需向其支付報酬。

綜上所述，布圖設計權是介于著作權和專利權之間的一類新型知識產權。之所以說其介于二者之間，有兩個原因:首先，就權利取得的條件而言，布圖設計須具備一定的創造性，這比僅需滿足獨創性條件的作品要嚴格，但其所需達到的創造性高度又比專利的要求更低。其次，就法律的保護程度而言，布圖設計所獲得的保護恰恰介于二者之間，一方面，布圖設計權除了包括復制權外，還包括對布圖設計的商業利用權，其所獲得的保護程度比作品高;另一方面，布圖設計權人又不能對布圖設計享有像專利權那樣的獨占性專有權，其受保護程度又比專利低。因此，布圖設計權也被稱為介于著作權和專利權之間的“工業版權”。

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